看一些非晶硅薄膜生產線資料，發現兩個問題？特向高人請教，幫幫我吧
首先，清洗完玻璃之后直接做SnO2沉積可以嗎？會不會還需要對清洗后的玻璃烘干處理（我覺得必須要烘干下），我看那些資料上沒有介紹烘干處理，是不是現在的清洗線有自動烘干的作用？
第二，TCO鍍膜并劃線、清洗后，在推入PECVD前，要用一個預烘爐進行預烘，請問，該預烘爐的作用是什么？對TCO起作用還是僅僅為了烘干清洗后殘留水分？，又或是預烘對于PECVD制備非晶硅薄膜有什么作用？
煩請大家指點啊